経済産業省特許庁は特許訴訟制度、意匠・商標制度を法改正によって見直す。「特許法等の一部を改正する法律案」を1日に政府として閣議決定し、通常国会に提出した。特許法を改正し、産業財産権に関する訴訟制度を改善するとともに、意匠法を改正してデジタル技術を活用したデザインの保護などを強化する。
特許法の改正では特許権の侵害がある場合、中立な技術専門家が被疑侵害者の工場などに立ち入り、特許権の侵害立証に必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度を新設。同時に、損害賠償額算定方法も見直し、侵害者が販売した数量のうち、特許権者の生産能力などを超えるとして賠償が否定されていた部分について、賠償を請求できるようにする。
意匠法ではクラウド上に保存され、ネットワークを通じて提供される画像など「物品に記録・表示されていない画像」や商業施設などを含む建築物の外観・内装のデザインを同法の保護対象に加える。
さらに、関連意匠制度（自己の出願した意匠または自己の登録意匠に類似する意匠の登録を認める制度）の出願可能期間を現行の「登録意匠の登録の公表日まで（8カ月程度）」から「登録意匠の出願日から10年以内」までに延長する。意匠権の存続期間も「登録日から20年」を「出願日から25年」に変更する。複数の意匠の一括出願を認めるなど登録手続きも簡素化する。
商標法の改正では自治体や大学などが自身を表示する「著名」な商標権のライセンスを認める。
